学校法人日本大学は日本大学歯学部　関  啓介、戸木  新、小森谷（白𡈽）  康司、村山  良介による共同開発技術である インプラントアクセスホール被覆構造体及びその作製システムについて令和 8年 2月20日に特許出願いたしました。

【出願番号】　　特願2026-026224

【発明の名称】  インプラント上部構造体設計方法、被覆体、上部構造体、情報処理装置およびプログラム

本技術は、従来のインプラント上部構造におけるアクセスホールの問題（審美性、機能性、撤去の困難性）を解決するために考案された被覆構造体に関するものです。インレー体に近いこの被覆構造体はCAD/CAMソフトウェアにてデザインしますが、この技工操作ステップで使用するテンプレートを開発しました。今後、本技術のライセンスや技術相談、共同研究を積極的に進めてまいります。